返回第192章 团队攻14nmFinFET  重回1990:我的科技强国路首页

关灯 护眼     字体:

上一页 目录 下一章

“漏电流达標!”“驱动电流超预期!”“芯粒互联成功率98.7%!”“cpu单核性能达到2.8ghz!”……

一项项捷报传来,当最终的良率数据定格在“51%”时,实验室沸腾了!

“51%!我们做到了!”陈默激动地跳起来,和同事们拥抱。

梁志远眼眶湿润,用微微颤抖的手拍下测试屏幕,发给了章宸和陈醒。

视频那头的章宸,疲惫的脸上露出了久违的、发自內心的笑容:

“太好了!51%!我们跨过了技术验证的门槛!下一步,良率爬坡,衝击60%的量產线!”

然而,喜悦的泡沫很快被新的测试结果刺破。

在进行高温老化测试时,部分样片在125c极限温度下,出现了电晶体閾值电压漂移,导致性能衰减超过8%。

“是热载流子注入效应。”

梁志远眉头紧锁,

“14nm节点的柵氧层太薄了,高温下电子更容易穿透,造成性能不可逆的衰退。”

问题比想像中更顽固。章宸立刻组织跨团队线上会议。

“必须在柵极结构上做文章,”

他提出方案,

“採用金属柵极+高k介质层的堆叠结构,中间增加一层氮化鈦作为阻挡层。同时,优化离子注入工艺,从源头上减少热载流子產生。”

“材料这边,”

徐文渊教授通过视频接入,

“我们同步在测试氧化鉿基的高k柵氧材料,介电常数更高,能在同等厚度下提供更好的绝缘性能,样品一周內可以提供。”

没有丝毫停歇,新一轮优化迅速启动。

设计团队修改光罩图形,工艺团队调整上百个参数,材料团队同步推进。又是五天五夜不眠不休的奋战,第二批次工程流片启动。

当最终的测试报告出来时,所有人都长舒一口气:

高温閾值电压漂移控制在3%以內,性能衰减不足2%,完全满足商用標准。而最关键的良率数据,赫然达到了62%!

“62%!良率达標了!”

研发中心爆发出震耳欲聋的欢呼,掌声经久不息。

梁志远靠在椅背上,闭上眼,疲惫的脸上终於露出了彻底放鬆的笑容。他立刻向陈醒报捷。

陈醒正在euv实验室关注光源进展,接到电话,他停下脚步,眼中闪过难以抑制的亮色,紧绷的面容柔和下来:

“好!梁工,章博士,还有整个团队,你们立了大功!这不仅是未来科技的突破,更是华夏半导体產业一个里程碑式的进展!”

就在这时,实验室的门被猛地推开,赵静拿著平板电脑急匆匆走进来,脸上带著前所未有的凝重。

“陈总,梁工,皮衣科技的p200 gpu开始全球大规模铺货了!亚逊云、微创云都宣布將其作为下一代ai训练的主力晶片,他们的批量採购价,比我们的『悟道1號』……低了15%以上!”

她顿了顿,声音沉重,

“我们接触的几家国內网际网路巨头,態度开始摇摆,都在询问我们下一代『悟道』晶片的进度和价格。”

欢呼声戛然而止。

梁志远脸上的笑容瞬间冻结。他看著屏幕上那来之不易的62%良率数据,心中五味杂陈。

他们刚刚在製造端艰难地推开了一扇门,却发现市场端的暴风雨已经扑面而来。

陈醒的声音通过电话传来,恢復了惯有的冷静与决断:

“梁工,你们团队的成就非凡!现在,立刻將工作重心转向良率稳定和爬坡,目標是儘快稳定在70%以上,为『天权5號』的流片做好万全准备!”

他话锋一转,语气变得锐利:

“至於皮衣科技的价格战和市场攻势……赵静,通知管理层,半小时后紧急会议!我们不能等到『悟道2號』了,必须立刻回应!『悟道晶片战皮衣科技』的第一枪,我们不能退,也退不起!”

电话掛断,梁志远看著身边从狂喜跌回现实的团队成员,深吸一口气,声音坚定如铁:

“同志们!都听到了吗?我们在这里每提升一个百分点的良率,就是在为前线的兄弟多造一发子弹!接下来的目標,良率稳定至75%,同时,全力配合章博士团队,完成『天权5號』的最终设计!我们在这里多流一滴汗,前线的战友就能少流一滴血!”

“是!”

整齐的回应,带著破釜沉舟的勇气。

华夏芯谷的夜色依旧深沉,但14nm研发中心的灯光,却比以往任何时候都更加灼热、坚定。

他们刚刚贏得了一场艰苦的攻坚战,但所有人都明白,一场更加残酷、关乎生死存亡的市场决战,已经隨著皮衣科技的阴影,笼罩而来。

『加入书签,方便阅读』

上一页 目录 下一章