第198章 国產EUV光源突破 重回1990:我的科技强国路
团队成员们几乎住在实验室,方便麵箱子堆成了小山,每个人的眼窝都深陷下去,但眼神中的火焰却从未熄灭。这是一场与时间、与物理极限的赛跑。
七天后,首个集成了纳米保护膜和新式微透镜阵列的优化版锡滴发生器,被小心翼翼地安装到位。
设备启动。雷射束通过布满微小透镜的阵列,瞬间被分解成十六道更细的光束,如同精准的外科手术刀,从不同角度同步轰击在锡滴上。
主控屏幕上,那条原本总是带著细微抖动的绿色曲线,陡然间变得前所未有的平滑!
“功率稳定度……97.8%!”
操作员的声音因激动而变调,
“锡滴均匀度提升18%!初步预估喷嘴磨损速度下降超过35%!”
实验室里爆发出压抑的欢呼!但没有人放鬆,这还不是最终胜利。
徐文渊团队根据初步数据,连夜微调保护膜成分与厚度。
金秉洙团队则对十六个子束的能量配比进行精细化雕琢。
三天后,最终测试启动。
当设备稳定运行一小时后,稳定度曲线稳稳定格在98.3%!连续八小时耐力测试结束,数据显示:稳定度维持在98.1%至98.5%之间波动,衰减远低於0.5%的生死线!
成功了!
这一刻,实验室沸腾了!年轻的工程师们相拥而泣,年长的研究员们则红著眼眶,用力拍打著彼此的肩膀。
金秉洙与徐文渊两位教授紧紧握手,一切尽在不言中。数年心血,无数不眠之夜,终於换来了这打破垄断、自主可控的“华夏之光”!
林薇第一时间將捷报传回深城。
陈醒正在主持“天机云”的海外架构评审会,接到消息,他立刻暂停会议,深吸一口气,强压下心中的澎湃:
“立刻组织最终验收,確保万无一失!通知章宸和梁志远,『天权5號』14nm流片,按原计划,准时启动!”
然而,成功的喜悦还未散去,周明的加密通讯接了进来,带来了凛冽的寒意:
“陈总,阿斯莫通过其在欧洲的盟友,已经探测到我们的euv光源突破。他们正在华盛顿紧急游说,试图將我们的euv相关技术全部纳入管制清单。同时,宝积电也可能迫於压力,限制我们在先进封装技术上的合作。”
陈醒的眼神瞬间锐利如刀。封锁,从未停止,只会变本加厉。
“意料之中。”
陈醒语气冰冷,
“周明,密切监视,联合一切可以联合的力量,做好法律和外交层面的应对。林薇,euv整机集成项目立刻提速!同时,启动下一代更高功率、更高稳定度euv光源的预研,目標直指未来更先进的製程!”
当天下午,华夏芯谷举行了一场简朴而郑重的內部庆功会。
没有鲜花彩带,只有清茶一杯。陈醒看著台下这些面容憔悴却目光坚定的“追光者”,心潮起伏。
“同志们,euv光源的突破,是我们『追光计划』的一座里程碑!它证明了,没有什么技术壁垒是不可打破的!”
他的声音在车间里迴荡,
“但这,仅仅是开始!接下来,14nm流片是检验我们成果的关键一役,euv整机的自主集成是下一个必须攻克的堡垒!前路註定荆棘密布,但我相信,手握『华夏之光』的我们,必將一往无前!”
庆功会结束的哨音,也是下一场战役衝锋的號角。
章宸团队开始对“天权5號”的最终流片数据做最后一遍校验。
梁志远则带领工艺团队,在14nm实验线上进行著流片前的最后一次全流程工艺模擬。
然而,就在流片启动前夜的最终评审会上,梁志远指著一组数据,眉头紧锁:
“陈总,我们发现14nm finfet电晶体的閾值电压均匀性,在不同晶圆区域还有纳米级別的差异。虽然目前在规格范围內,但可能会影响最终晶片的极致性能和良率上限。”
所有人的目光再次聚焦到陈醒身上。
陈醒没有丝毫迟疑,目光扫过梁志远和章宸:
“成立临时攻坚组!梁志远,你负责工艺端,哪怕把工艺窗口再缩小一纳米,也要把均匀性给我提上来!章宸,你从设计端配合,看看能否通过设计-工艺协同优化,补偿这部分波动!流片计划不变,我们要用最完美的状態,迎接这场『大考』!”
夜色深沉,华夏芯谷的晶圆厂內依旧灯火通明。
euv光源的成功突破,为这片寂静的战场投下了最耀眼的光束。
而一场决定“天权5號”命运,乃至未来科技先进位程未来的流片之战,已进入最后的读秒阶段。