不过好像是真的没李东有面子，至少现在是。

“那就麻烦周主任了。”

……

此时此刻，考场內。

只剩下最后四十分钟了。

李东坐在座位上，看著试卷的最后一页，眼神很复杂。

他一直觉得自己为了改变命运，在群里披著马甲薅那些科学巨匠的羊毛，已经算是挺不要脸的行为了。

但是，今天看了华轩科技出的这道压轴题，李东才知道，什么叫“资本的厚顏无耻”！

【某半导体设备企业正在研发 28nm工艺节点量產型浸没式光刻系统，核心要採用 193nm arf准分子雷射光源，局部浸没式成像架构，在投影物镜最后一片镜片与晶圆表面之间，填充折射率 n=1.44的超纯水作为成像介质，以提升系统解析度和成像精度。

系统工作时，晶圆台以匀速直线扫描完成整片晶圆曝光，曝光雷射的能量会在浸没液中產生局部瞬態温升，进而引发成像误差。】

某半导体企业？到底是哪个半导体企业呢？好难猜呀。

看完这个背景，再看问题。

李东的眼角都开始抽搐了。

【请你设计一套配套的成像误差实时补偿方案，需同时满足以下所有硬性指標：

补偿精度：可將浸没介质折射率波动带来的曝光线宽误差，控制在±1.2nm以內；

响应速度：补偿延迟≤1ms，可適配晶圆台≥1200mm/s的匀速扫描速度；

抗干扰能力：补偿效果不受浸没液瞬態温度波动、流速扰动、溶解气体含量变化的影响；

结构约束：方案不得改动现有曝光光学系统的核心结构与参数，不得改变浸没介质的成分与基础物性，无任何与晶圆表面直接接触的部件。

量產要求：方案核心部件可標准化批量生產，单套系统物料成本≤100万元人民幣。】

“呵呵。”

这题如果是说人话的话就是：

我们国威装备现在在搞浸没式光刻机。

然后遇到点小问题。

水被雷射加热以后，什么折射率变了呀，什么光路歪了呀，所以良品率崩了。

我们呢，是养一大帮百万年薪的顶尖光学博士和流体力学专家。

但是！他们好像不太会。

所以，我们就想让你们这群连大学校门都没进的高中生，来试试能不能用不超过一百万块钱的成本，帮我把这个问题给秒了？

“好不要脸！”

就在李东吐槽题目的时候，考场里开始陆续传来“啪嗒”、“啪嗒”的声音。

那是考生们放下笔的声音。

坐在李东斜前方的那个魔都中学的男生，此刻正满脸的怀疑人生。

不远处，乔帆的草稿纸上画满了流体力学的纳维-斯托克斯方程和热传导偏微分方程……

这群学霸现在很懵逼，这给我干到哪来了？

这都不是超不超纲的问题了。

这是压根就没打算让人做出来啊！

要知道高中的物理竞赛，不，甚至是大学本科的普通物理，研究的都是“理想模型”。

一般都是无摩擦的表面，绝对刚性的杆，均匀恆温的介质。

但这道题，是“工程现实”！

別说做了，这些专攻物理竞赛的普通竞赛生，很多连这题里涉及的参数逻辑都看不懂！

如果谁真的能提出一个完美自洽且可落地的方案……

这就是帮国產半导体迈过了成熟製程自主可控的一道关键门槛。

“你们华轩科技……真敢想啊。”