第206章 芯谷厂房突发静电事故 重回1990:我的科技强国路
“我在监控室看到了。”陈醒的声音异常平静,“人员伤亡?”
“没有。所有人员在警报后立即疏散,只有设备损坏和晶圆损失。”
“原因?”
“强静电场,具体来源还在排查。”梁志远顿了顿,“但陈总,有些情况不正常。静电电压在几分钟內从正常值飆升到五千伏,这不符合任何已知的故障模式。而且……它似乎是从多个点同时產生的,就像整个厂房的接地系统突然失效了。”
电话那头沉默了几秒。
“金秉洙博士在吗?”陈醒问。
“在euv光源实验室,我这就接过去。”
视频会议系统开启。金秉洙的脸出现在屏幕上,背景是“追光二期”的监控界面。
“金博士,你们的euv光源系统刚才有没有异常?”梁志远直接问。
金秉洙的脸色很不好看:“有。在静电事故发生的同一时刻,『追光二期』记录到一次强烈的电磁脉衝干扰。不是来自设备內部,而是外部耦合进来的。我们的『起搏器』电极放电电流因此波动了15%,但控制系统及时稳住了。”
“外部电磁脉衝……”梁志远喃喃道,“林总在宝岛发现的电磁扰动?”
“可能,但强度不对。”金秉洙调出数据,“这次干扰的场强比之前监测到的高出两个数量级。而且频率特徵也不同,更像是……人为的。”
这个词让监控室里的空气凝固了。
“人为?”陈醒的声音传来。
“我不敢肯定。”金秉洙谨慎地说,“但干扰的波形有很强的规律性,像是某种调製信號。自然界的电磁扰动通常是隨机的。”
梁志远立即调出全厂区的电磁环境监测数据。在事故发生的精確时刻,频谱图上出现了一个明显的尖峰,频率在1.2兆赫兹左右,正是林薇在宝岛发现的那个频率。
但这一次,尖峰的强度高了近百倍。
“陈总,我需要立即进行两件事。”梁志远说,“第一,全面检查全厂接地和防静电系统;第二,对这次电磁干扰事件进行溯源分析。”
“批准。”陈醒的回应简洁有力,“让章晴加入分析团队。另外,事故消息严格控制,对外只说设备故障需要检修。量產计划调整方案,两小时內给我。”
通话结束。梁志远开始组织事故调查组。但他不知道的是,在华夏芯谷三公里外的一栋普通写字楼里,一个偽装成通信基站维护车的设备刚刚关闭。
车厢內,两名技术人员正在拆卸一台高频电磁发射器。
“数据採集完成。”较年轻的技术员看著屏幕上的波形图,“目標厂房的电磁屏蔽效能、接地系统响应特性、关键设备的电磁敏感性……所有参数都拿到了。”
年长的技术员小心地將发射器核心部件拆下,装入特製的防护箱:“频率1.2兆赫兹,脉衝调製,峰值场强每米50伏。这个强度足够激发任何处於临界状態的静电积累,但又不会留下明显的破坏痕跡。”
“他们能发现是外部干扰吗?”
“发现又如何?”年长的技术员拉上防护箱的拉链,“电磁环境复杂,干扰源千千万万,可能是隔壁工厂的设备,可能是无线电爱好者,甚至可能是太阳黑子活动。没有直接证据,他们什么也证明不了。”
“但那台euv光刻机坏了,晶圆也报废了。”
“这正是目的。”年长的技术员启动车辆,“让他们知道,即使有了自己的晶片工厂,即使掌握了14nm工艺,依然脆弱得不堪一击。一次『意外』的静电事故,就能让整个產线停摆一个月。”
车子缓缓驶离。在他们身后,华夏芯谷的厂房在夕阳下矗立,安静得仿佛什么也没发生。
但厂房內,梁志远正面临著更棘手的问题。
事故调查组在检查接地系统时发现了一个令人费解的现象:全厂的主接地网电阻完全正常,符合0.5欧姆的设计標准。但接地网上各个点的电位却不一致,有些点之间存在著高达十几伏的电位差。
“这不可能。”接地系统工程师反覆测量,“接地网应该是等电位的,除非……”
“除非有外部电流注入。”章晴的声音从对讲机里传来。她此刻正在数据分析室,面前是事故前后全厂区的所有监控数据。
“梁工,我调取了事故前半小时的电力监控数据。”章晴的声音带著发现线索的兴奋,“发现了一个奇怪的现象:在静电电压开始上升前约五分钟,全厂所有三相负载的电流都出现了微小的、同步的相位偏移。”
“相位偏移?多大?”
“平均0.3度,持续约两秒,然后恢復正常。”章晴说,“这种偏移会导致三相系统的不平衡度增加,从而在零线上產生额外的谐波电流。而谐波电流如果通过接地系统泄放……”
“就会在接地网上產生电位差!”梁志远明白了,“而电位差就是驱动静电积累的源头。但什么原因会导致全厂所有负载同步发生相位偏移?”
章晴停顿了一下:“外部电网的扰动?还是……某种针对性的电磁干扰,直接耦合进了我们的供电系统?”
这个推测太大胆,但梁志远无法反驳。所有的线索都指向同一个方向:这不是一次简单的设备故障或操作失误,而是一次精心策划的、利用电磁物理原理进行的隱蔽攻击。
攻击者甚至不需要进入厂房,不需要接触任何设备。他们只需要在合適的时间、合適的地点,发射一束合適频率的电磁波。
而华夏芯谷,这个代表著中国半导体自主化最高成就的工厂,就这样在无声无息中,遭受了重创。
梁志远走到窗前。外面,应急维修团队正在忙碌,被损毁的设备部件被小心翼翼地运出,新的备件正在运入。但每个人脸上都带著沉重的表情。
他知道,今晚很多人將无法入眠。而他需要做的,不仅是修復设备,更是要找出防御这种新型威胁的方法。
因为如果对方可以发动一次攻击,就可以发动第二次。
而“深红路线图”上的每一个时间节点,都承受不起第二次这样的“意外”。
夜幕降临,华夏芯谷的灯光亮起。在最大的那栋厂房外墙上,未来科技的標誌在夜色中静静发光。那是一个由晶片图案和星辰轨跡组合成的標誌,象徵著从微观到宏观的科技征途。
但今夜,在这星辰之下,一场没有硝烟的战爭,已经悄然打响。
而在数据分析室里,章晴正对著电脑屏幕上那些复杂的波形图,眉头紧锁。在她的良率建模软体中,一个新的变量被加入了模型:外部电磁干扰强度。
软体开始重新计算。进度条缓慢移动,而结果预测显示,如果这种干扰持续存在,14nm量產的长期良率將永远无法突破75%的生死线。
她需要一个新的模型,一个能够应对不確定性的、动態的、自適应的製造过程控制模型。